Hybrid Plasma Chemical Vapor Deposition Growth of Diamond
|
Dane podstawowe | |
| Nr systemowy: | 527 |
|---|---|
| Tytuł: | Hybrid Plasma Chemical Vapor Deposition Growth of Diamond |
| Autorzy: | CIEPLIŃSKI Paweł - pracował w jednostce i afiliował do: Wydział Elektryczny - autor NOWAK Wojciech - pracował w jednostce i afiliował do: Wydział Budowy Maszyn - autor |
| Typ dokumentu: | Inne |
| Typ publikacji: | publikacja obcojęzyczna |
| Język publikacji: | angielski |
| Rok publikacji: | 1991 |
| Strony: | 4.4-33 |
| Nazwa konferencji: | 4th World Congress of Chemical Engineering, Karlsruhe, Niemcy (16 do 21 czerwca 1991 r.). |
| Uwagi: | Abstrakt |